EFFECT OF IMPLANTATION OF MOLYBDENUM IONS ON THE ANODIC BEHAVIOR OF ALUMINUM FILMS
https://doi.org/10.37493/2307-907X.2021.1.1
Abstract
The anodic behavior of the aluminum film in the surface implanted with molybdenum ions is studied by measuring the potentiostatic polarization curves. The article shows the regularity of the dependence of the electrochemical characteristics of the aluminum film on the concentration of implanted ions. Electronic auger spectroscopic analysis with layer-by-layer ion-argon etching revealed that the effect of molybdenum ions on the surface of the aluminum ilm leads to the formation of a surface layer doped with molybdenum impurities and in the electrochemical process of combining aluminum oxide and an alloying impurity.
About the Authors
K. Karezhev
Kabardino-Balkaria State Agrarian University named after V. M. Kokova
Russian Federation
Russian Federation
A. Sokhrokov
Kabardino-Balkaria State Agrarian University named after V. M. Kokova
Russian Federation
Russian Federation
References
1. Коваленко, А. А. Влага в корпусах полупроводниковых приборов и микросхем / А. А. Коваленко, А. А. Теверовский, Г. И. Епифанов // Обзоры по электронной технике. Серия 2. Полупроводниковые приборы. - 1982. - № 2. - 63 с. - Текст : непосредственный.
2. Александров, О. В. Исследования коррозионной устойчивости алюминиевой металлизации ИМС / О. В. Александров, Е. С. Ковтун, Н. М. Романов, А. Е. Семёнов // Электронная техника. Серия 2. Полупроводниковые приборы. - 2014. - № 1. - С. 63-68. - Текст : непосредственный.
3. Назарова, Г. С. Микромеханизмы коррозионного повреждения элементов полупроводниковых структур / Г. С. Назарова, Г. Н. Миловзорова, Н. Н. Швиндина // Электронная техника. Серия 8. Управление качеством, метрология и стандартизация. - 1983. - № 1. - С. 37-40. - Текст : непосредственный.
4. Hoffman, V. High rate magnetron sputtering metallizing semiconductor devices / V Hoffman // Journal Solid State Technology. - 1976. - Vol. 19. - No. 12. - Pp. 57-66. - Text : unmediated.
5. Nowicki, R. S. Origins and minization of defects in Sputtered thin Films / R. S. Nowicki // Journal Solid State Technology. - 1980. - No. 12. - Pp. 88-92. - Text : unmediated.
6. Al-Saffar, A. H. The effect of molybdenum ion on the general and pitting corrosion behavior of pure aluminum high strength aluminum alloy / A. H. Al-Saffar, V Ashworth, A. O. Bairamov, D. J. Chivera // Journal Corrosion Science. - 1980. - No. 20. - Рр. 127-144. - Text : unmediated.
7. Диденко, А. Н. Воздействие пучков заряженных частиц на поверхность металлов и сплавов : учебное пособие / А. Н.Диденко, А. Е. Лигачев, И. Б. Куракин. - Москва : Энергоатомиздат, 1987. -184 с. - Текст : непосредственный.
8. Альтудов, Ю. К. Импульсная ионная имплантация в производстве изделий электронной техники / Ю. К. Альтудов, В. К. Аникин, Ю. Х. Гукетлев // Электронная промышленность. - 1984. - № 1. -С. 20-22. - Текст : непосредственный.
9. Григорьева И. О. Электрохимическое поведение алюминия в щелочной среде / И. О. Григорьева, А. Ф. Дресвянников // Вестник Казанского технологического университета. - 2010. - № 7. - С. 321325. - Текст : непосредственный.
10. Emregul, K. C. Electrochemical behaviour of pure aluminium in aqueous NaOH solution / K. C. Emregul, G. Bayramglu, A. A. Aksut // Indian Journal of Chemistry. Section A. - 1998. - Vol. 37A. - Pp. 521-524. -Text : unmediated.
Review
For citations:
Karezhev K., Sokhrokov A. EFFECT OF IMPLANTATION OF MOLYBDENUM IONS ON THE ANODIC BEHAVIOR OF ALUMINUM FILMS. Newsletter of North-Caucasus Federal University. 2021;(1):7-12. (In Russ.) https://doi.org/10.37493/2307-907X.2021.1.1
Views:
80
Email this article 