Выявлены основные типы дефектов, возникающих при формировании дискретных зон на основе алюминия избирательным смачиванием поверхности пластин кремния. Изучены зависимости дефек-тообразования от микрорельефа поверхности, толщины защитного покрытия оксида кремния, температуры процесса, скорости движения расплава, высоты расплава и концентрации добавок галлия к алюминию. Статистическая обработка большого массива экспериментальных данных позволила установить оптимальные условия процесса формирования зон и снизить суммарное относительное количество всех типов дефектов до значений, не превышающих 5 %.
The study identifies the main types of defects occurring in the formation of discrete zones on the basis of aluminium selective surface wetting of silicon wafers. The dependence of defect formation on the surface microrelief, and the thickness of the protective coating of silicon oxide, the process temperature, the velocity of the melt, the height of the melt and the concentration of additives of gallium to aluminum have been investigated. Statistical processing of a lot set of experimental data allowed to establish the optimal conditions of the process offormation zones and to reduce the total relative amount of all types of defects to values not exceeding 5 %.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.